[实用新型]一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置有效
| 申请号： | 201621007311.1 | 申请日： | 2016-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN206076270U | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 张伟;张雪峰;张磊;王雪亮;罗茂盛 | 申请（专利权）人： | 江阴鑫辉太阳能有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 214400 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，包括柱形主体和若干环形垫圈，其中所述环形垫圈为耐磨垫圈，其套设在所述柱形主体的外表面，并且所述环形垫圈的内环直径与所述柱形主体的截面直径相匹配，其外径大于所述柱形主体的截面直径，所述环形垫圈其内外径之差在0.5mm‑3mm之间。本实用新型便于调节柱形主体到硅片的距离，从而控制硅片表面水膜的水量。只需要备用一个柱形主体和若干个环形垫圈，可以大幅度节省生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 湿法 刻蚀 滚动 装置 | ||
【主权项】：
一种用于湿法刻蚀的压水滚动装置，其特征在于，包括：柱形主体和若干环形垫圈，其中所述环形垫圈为耐磨垫圈，其套设在所述柱形主体的外表面，并且所述环形垫圈的内环直径与所述柱形主体的截面直径相匹配，其外径大于所述柱形主体的截面直径，所述环形垫圈其内外径之差在0.5mm‑3mm之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
