[实用新型]一种链式湿法刻蚀机有效
申请号: | 201621022011.0 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN206040676U | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 周军;党继东;刘东续 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)32251 | 代理人: | 陆金星 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种链式湿法刻蚀机,包括风干槽传输机构,该风干槽传输机构包括配合设置的上滚轮和下滚轮;所述上滚轮包括滚轴、套设于滚轴上的滚轴套;所述滚轴和滚轴套之间具有间隙;所述上滚轮和下滚轮间隙配合,当基片从上滚轮和下滚轮之间的间隙通过时,使得所述滚轴套与基片之间构成线接触。本实用新型将滚轴和滚轴套之间设置成具有间隙的结构,使得作用于电池表面的力由现有的整个上滚轮变成滚轴套,因而大大降低了作用于电池表面的力,降低碎片量;同时解决了因滚轮印影响基片外观的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 链式 湿法 刻蚀 | ||
【主权项】:
一种链式湿法刻蚀机,包括风干槽传输机构,该风干槽传输机构包括配合设置的上滚轮(1)和下滚轮(2);其特征在于:所述上滚轮包括滚轴(3)、套设于滚轴上的滚轴套(4);所述滚轴和滚轴套之间具有间隙;所述上滚轮和下滚轮间隙配合,当基片从上滚轮和下滚轮之间的间隙通过时,使得所述滚轴套与基片之间构成线接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的