[实用新型]一种大束径离子源及屏栅有效
| 申请号： | 201621022540.0 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN206022305U | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 刁克明 | 申请（专利权）人： | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/09 | 分类号： | H01J37/09 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司11609 | 代理人： | 周娇娇,谭辉 |
| 地址： | 100071 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种大束径离子源，包括气体电离装置、离子光学系统和中和装置，其中气体电离装置用于产生等离子体，离子光学系统用于从等离子体中抽取离子束并加速，中和装置用于向离子束发射电子生成中性离子束；该大束径离子源的发射口径为100～200mm；所述离子光学系统包括在同一中心线上轴向间隔设置的屏栅和加速栅，该屏栅中部设有带栅孔的栅孔区，栅孔区的栅孔孔径沿径向方向从栅孔区圆心向外逐渐增大。本实用新型的大束径离子源，通过设计变孔径屏栅，使屏栅孔径与屏栅抽取的等离子浓度分布相匹配，进而通过不同的孔径抽取相同的束流密度，达到改善束流均匀度的目的，可产生束流宽、方向性强的离子束，且有效束径及均匀度大，束流稳定性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大束径 离子源 | ||
【主权项】：
一种大束径离子源，包括：气体电离装置、离子光学系统和中和装置，所述气体电离装置用于产生等离子体，所述离子光学系统用于从所述等离子体中抽取离子束并加速，所述中和装置用于向所述离子束发射电子生成中性离子束；其特征在于，所述大束径离子源的发射口径为100～200mm；所述离子光学系统包括在同一中心线上轴向间隔设置的屏栅和加速栅，所述屏栅中部设有带栅孔的栅孔区，所述栅孔区的栅孔孔径沿径向方向从栅孔区圆心向外逐渐增大。
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