[实用新型]光激发纯自旋流的器件有效

专利信息
申请号: 201621030334.4 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN206022382U 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 鸿之微科技(上海)有限公司
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司31266 代理人: 居瓅,李夫玲
地址: 201206 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及光电转换技术,公开了一种光激发纯自旋流的器件。在本实用新型中,光激发纯自旋流的器件中的沟道层仅为一个过渡金属硫族化合物层,不但结构简单,而且具有更低的能量损耗。
搜索关键词: 激发 自旋 器件
【主权项】:
一种光激发纯自旋流的器件,其特征在于,所述器件包括衬底(1)、沟道层(2)、偏振片(5)、第一磁性电极(3)和第二磁性电极(4);所述衬底(1)和所述偏振片(5)分别位于所述沟道层(2)的两侧,所述沟道层(2)仅为一个过渡金属硫族化合物层;所述第一磁性电极(3)和所述第二磁性电极(4)分别位于所述衬底(1)表面上的所述沟道层(2)的两端。
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