[实用新型]一种半导体清洗设备

摘要

本实用新型公开了一种半导体清洗设备，包括清洗液槽、自动定量补液装置、恒温加热器、密封壳、超声波清洗室、除雾室、控制面板、过载保护器、污水出口、油水分离器、底座、传送台、出入料自动门、清洗室、喷液口、密封条、滑动门和固定门，所述底座上方安装有传送台，所述超声波清洗室内部安装有密封壳，且超声波清洗室右侧安置有除雾室，所述除雾室下方底座内部安装有过载保护器，且过载保护器右侧底座表面安装有控制面板。该半导体清洗设备安装有可拆卸的喷液口设置有十八个，而且喷液口设置有十八个，这样可以同时清洗多片半导体器件，另外，该设备还安装有入料自动门，实现了清洗过程的全自动，节省了劳动力，降低了成本。

主权项

一种半导体清洗设备，包括清洗液槽（1）、自动定量补液装置（2）、恒温加热器（3）、密封壳（4）、超声波清洗室（5）、除雾室（6）、控制面板（7）、过载保护器（8）、污水出口（9）、油水分离器（10）、油污出口（11）、油水混合槽（12）、底座（13）、传送台（14）、出入料自动门（15）、清洗室（16）、喷液口（17）、密封条（18）、滑动门（19）和固定门（20），其特征在于：所述底座（13）上方安装有传送台（14），且传送台（14）上方左侧安置有清洗室（16），所述清洗室（16）左侧安装有出入料自动门（15），且出入料自动门（15）上安装有密封条（18），所述清洗室（16）内部安装有喷液口（17），所述喷液口（17）上方安装有清洗液槽（1），且清洗液槽（1）与自动定量补液装置（2）相连接，所述清洗室（16）下方设有油水混合槽（12），且油水混合槽（12）内安装有油水分离器（10），所述油水混合槽（12）底部左侧设有油污出口（11），且油水混合槽（12）底部右侧设有污水出口（9），所述清洗室（16）右侧设有恒温加热器（3），且恒温加热器（3）右侧安装有超声波清洗室（5），所述超声波清洗室（5）内部安装有密封壳（4），且超声波清洗室（5）右侧安置有除雾室（6），所述除雾室（6）下方底座（13）内部安装有过载保护器（8），且过载保护器（8）右侧底座（13）表面安装有控制面板（7）。