[实用新型]化学机械抛光系统有效
| 申请号： | 201621056481.9 | 申请日： | 2016-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN206105604U | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 许振杰;陈祥玉;王剑;庞伶伶;沈攀;王国栋;裴召辉;郑全午;陈映松;王同庆;李昆;路新春 | 申请（专利权）人： | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B41/00;B24B41/02;B24B41/06;B24B55/06 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，所述化学机械抛光系统包括前端模块，所述前端模块用于存储和/或检测晶圆；多个抛光单元，多个所述抛光单元并排设置，且至少一个邻近所述前端模块；抛光机械手，所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传递晶圆；后清洗单元，所述后清洗单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连，且设置为清洗时晶圆纵置；中转机械手，所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后清洗单元之间顺次传递。本实用新型的化学机械抛光系统，生产效率高，工艺流程更加灵活，清洗效果更好，且后清洗单元的体积小，结构紧凑。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 系统 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光系统，其特征在于，包括：前端模块，所述前端模块用于存储和/或检测晶圆；多个抛光单元，多个所述抛光单元并排设置，且至少一个邻近所述前端模块；抛光机械手，所述抛光机械手设在多个所述抛光单元之间用以传递晶圆；后清洗单元，所述后清洗单元与所述抛光单元和所述前端模块均相连，且设置为清洗时晶圆纵置；中转机械手，所述中转机械手用于将晶圆在所述抛光单元与所述后清洗单元之间顺次传递。
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