[实用新型]一种制备纳米结构陶瓷涂层的液料等离子喷涂装置有效
申请号: | 201621059372.2 | 申请日: | 2016-09-16 |
公开(公告)号: | CN206219649U | 公开(公告)日: | 2017-06-06 |
发明(设计)人: | 汪瑞军;王世兴;袁涛;徐林 | 申请(专利权)人: | 北京金轮坤天科技发展有限公司 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134;C23C4/11 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司11203 | 代理人: | 刘萍 |
地址: | 100083 北京市朝阳区德胜*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种制备纳米结构陶瓷涂层的液料等离子喷涂装置,用于在基体上制备出具有纳米结构的陶瓷涂层,包括等离子系统和液料输送装置,所述液料输送装置包括液料输送系统及液料注入系统,所述液料输送系统包括气源和液料输送动力装置,所述液料输送动力装置与所述气源连接,所述液料注入系统包括二流气雾化喷嘴,所述二流气雾化喷嘴与所述液料输送动力装置连接,所述二流气雾化喷嘴对应于所述等离子系统的等离子射流的高温区设置且与所述气源连接,所述二流气雾化喷嘴将所述液料输送动力装置中的液料雾化成具有一定速度的液滴并送入所述等离子射流的高温区,所述液滴经所述等离子射流加热加速后沉积在所述基体上形成纳米结构的陶瓷涂层。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 纳米 结构 陶瓷 涂层 等离子 喷涂 装置 | ||
【主权项】:
一种液料等离子喷涂装置,其特征在于,包括等离子喷涂系统和液料输送装置,所述液料输送装置包括液料输送系统、液料注入系统及清洁系统,所述液料输送系统包括气源和液料输送动力装置,所述液料输送动力装置与所述气源连接,所述液料输送动力装置为液料储存压力容器,所述液料储存压力容器内还安装有机械搅拌装置,所述液料注入系统包括二流气雾化喷嘴,所述二流气雾化喷嘴分别与所述液料输送动力装置及所述气源连接,所述清洁系统包括清洁介质输送动力装置,所述清洁介质输送动力装置与所述气源连接,所述液料注入系统与所述清洁介质输送动力装置连接,所述清洁介质输送动力装置为清洁介质储存压力容器。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
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