[实用新型]CCD高光机定位检测系统有效
| 申请号： | 201621064684.2 | 申请日： | 2016-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN206010631U | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 雷万春;张钦炎;朱文飞 | 申请（专利权）人： | 深圳大宇精雕科技有限公司 |
| 主分类号： | B23Q17/24 | 分类号： | B23Q17/24 |
| 代理公司： | 北京酷爱智慧知识产权代理有限公司11514 | 代理人： | 刘光裕 |
| 地址： | 518111 广东省深圳市龙岗平*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于高光机技术领域，提供了一种CCD高光机定位检测系统，该系统包括CCD视觉子系统和处理器，CCD视觉子系统包括机器视觉光源和CCD相机，机器视觉光源位于CCD相机的底端，CCD相机与处理器电连接，CCD相机位于高光机的Z轴移动机构的侧壁，高光机包括基座和设于基座上的支架，支架的第二端设有Z轴移动机构。本实用新型提供的CCD高光机定位检测系统，能够确定待加工孔的位置，提高定位精度与产品加工的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | ccd 高光机 定位 检测 系统 | ||
【主权项】：
一种CCD高光机定位检测系统，其特征在于，包括：CCD视觉子系统和处理器，所述CCD视觉子系统包括机器视觉光源和CCD相机，所述机器视觉光源位于所述CCD相机的底端，所述CCD相机与所述处理器电连接，所述CCD相机位于高光机的Z轴移动机构的侧壁，所述高光机包括基座和设于基座上的支架，所述支架的第二端设有所述Z轴移动机构。
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