[实用新型]一种用于真空对盒系统的清洁装置及真空对盒系统有效
| 申请号： | 201621077259.7 | 申请日： | 2016-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN206083192U | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 万强;江定宇;徐立元;颜伟;余天东;胡宏波 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B08B3/08;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 姜春咸,陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于真空对盒系统的清洁装置，所述真空对盒系统包括吸附板和间隔设置在所述吸附板上的多个吸附件，其中，所述清洁装置包括安装件和多个间隔设置在所述安装件上的清洁件，相邻两个所述清洁件之间的间隔与相邻两个所述吸附件之间的间隔匹配，所述清洁件用于清洁所述吸附件。本实用新型还公开了一种真空对盒系统。本实用新型公开的用于真空对盒系统的清洁装置提高了清洁效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 系统 清洁 装置 | ||
【主权项】：
一种用于真空对盒系统的清洁装置，所述真空对盒系统包括吸附板和间隔设置在所述吸附板上的多个吸附件，其特征在于，所述清洁装置包括安装件和多个间隔设置在所述安装件上的清洁件，相邻两个所述清洁件之间的间隔与相邻两个所述吸附件之间的间隔匹配，所述清洁件用于清洁所述吸附件。
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