[实用新型]一种能够控制基坑预降水引起变形的降水井错位布置体系有效

专利信息
申请号: 201621079901.5 申请日: 2016-09-26
公开(公告)号: CN206204971U 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 曾超峰;柯力俊;薛秀丽 申请(专利权)人: 湖南科技大学
主分类号: E02D19/10 分类号: E02D19/10
代理公司: 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙)43108 代理人: 宋向红
地址: 411201 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型公开了一种能够控制基坑预降水引起变形的降水井错位布置体系。本实用新型的技术要点是,在基坑支护墙范围内设置有若干口降水井;所述各降水井的平面、立面布置是,降水井以基坑中轴为对称轴分布在基坑中轴两侧至基坑支护墙范围内;降水井深度分布即立面布置是,距离基坑两边支护墙越近的降水井相对较深、距离基坑中轴越近的降水井相对较浅,同时,相邻降水井间距分布即平面布置是,距离基坑两边支护墙越近的相邻降水井间距相对较小、距离基坑中轴越近的相邻降水井间距相对较大。本实用新型减小了基坑内土体发生背离支护墙的变形,进而减小了支护墙的侧移,从而降低施工风险。
搜索关键词: 一种 能够 控制 基坑 降水 引起 变形 错位 布置 体系
【主权项】:
一种能够控制基坑预降水引起变形的降水井错位布置体系,在基坑开挖前于基坑侧壁设置有支护墙,在所述基坑支护墙范围内设置有若干口降水井;其特征在于:所述各降水井的平面、立面布置是,降水井以基坑中轴为对称轴分布在基坑中轴两侧至基坑支护墙范围内;降水井深度分布即立面布置是,距离基坑支护墙越近的降水井相对较深、距离基坑中轴越近的降水井相对较浅,同时,相邻降水井间距分布即平面布置是,距离基坑两边支护墙越近的相邻降水井间距相对较小、距离基坑中轴越近的相邻降水井间距相对较大。
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