[实用新型]利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器

摘要

公开了一种利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器。一种等离子体源，由等离子体点源的阵列组成，该等离子体源对用户界定的区域在空间上和时间上控制带电粒子和自由基的产生。

主权项

一种等离子体反应器，其特征在于，所述等离子体反应器包含：处理腔室和在所述处理腔室中的工件支座，所述腔室包含面对所述工件支座的下顶板；覆盖在所述下顶板上方的并且面对所述下顶板的上顶板和覆盖在所述上顶板上方的气体分配器；在所述上顶板与所述下顶板之间界定多个空腔的多个腔壁，所述气体分配器包含至所述多个空腔中的相应空腔的多个气流路径；在所述下顶板中与所述多个空腔中的相应空腔对齐的多个出口孔；邻接所述多个空腔中的相应空腔的相应功率施加器、电源、耦接到所述功率施加器中的相应功率施加器的多个功率导体，以及耦接在所述电源与所述多个功率导体之间的功率分配器。