[实用新型]用于微机电系统芯片的基片及微机电系统芯片有效
申请号: | 201621092331.3 | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN206126834U | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 李全宝 | 申请(专利权)人: | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 |
主分类号: | B81B1/00 | 分类号: | B81B1/00;B81C1/00 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32256 | 代理人: | 王锋 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于微机电系统芯片的基片及微机电系统芯片,属于微机械领域,该用于微机电系统芯片的基片包括具有上表面和下表面的基片本体及形成在所述基片本体内的至少一个腔体,每个所述腔体包括呈上下设置的上子腔部和下子腔部,所述上子腔部和下子腔部连通,所述上子腔体自所述基片本体的上表面向下延伸形成;所述上子腔部所围设形成的形状和/或尺寸与所述下子腔部所围设形成的形状和/或尺寸不同;于所述基片本体的下表面上,所述上子腔部的正投影面积大于所述下子腔部的正投影面积。 | ||
搜索关键词: | 用于 微机 系统 芯片 | ||
【主权项】:
一种用于微机电系统芯片的基片,其特征在于:包括具有上表面和下表面的基片本体及形成在所述基片本体内的至少一个腔体,每个所述腔体包括呈上下设置的上子腔部和下子腔部,所述上子腔部和下子腔部连通,所述上子腔体自所述基片本体的上表面向下延伸形成;所述上子腔部所围设形成的形状和/或尺寸与所述下子腔部所围设形成的形状和/或尺寸不同;于所述基片本体的下表面上,所述上子腔部的正投影面积大于所述下子腔部的正投影面积。
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