[实用新型]基于微波电离的光学元件介质膜层表面指纹污染清除系统有效
| 申请号： | 201621105833.5 | 申请日： | 2016-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN206057679U | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 任攀;吴凡;张家雷;王伟平;张宁 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 | 代理人： | 冯龙 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基于微波电离的光学元件介质膜层表面指纹污染清除系统，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 微波 电离 光学 元件 介质 表面 指纹 污染 清除 系统 | ||
【主权项】：
基于微波电离的光学元件介质膜层表面指纹污染清除系统，其特征在于，包括样品仓（4），所述样品仓（4）外部设置有微波源（5）、真空机构、气体流量控制系统（2）、氧气源（1）和惰性气体气源（3），氧气源（1）和惰性气体气源（3）均与气体流量控制系统（2）连接，微波源（5）、真空机构和气体流量控制系统（2）均与样品仓（4）内部连通。
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