[实用新型]镀膜质量高的光学用真空腔体有效

专利信息
申请号: 201621107390.3 申请日: 2016-10-10
公开(公告)号: CN206173436U 公开(公告)日: 2017-05-17
发明(设计)人: 瞿建强;瞿一涛;黄仕强;陆彬锋 申请(专利权)人: 江阴市光科真空机械有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙)32247 代理人: 王明亮
地址: 214400 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种镀膜质量高的光学用真空腔体,包括真空腔体本体,在位于真空腔体本体的用于置放蒸发源的底部的正上方设有铰接在真空腔体本体上部的挡盖,挡盖下设置由记忆合金材料制成的弹簧。本实用新型采用变态温度等于蒸镀温度的记忆合金制成的弹簧,能够在只达到蒸发物的蒸发温度时才变形以打开用于阻挡杂质的挡盖,这样避免了在镀膜之前的加热过程中有杂质被蒸发至靶材的情况,提高了镀膜质量,不会出现薄膜厚度不均、组分不净、性能不稳、应力较大、附着不牢固等缺点;还可以采用较常见的较易得的记忆合金材质制成的弹簧,再配合机械延时开关能在达到蒸发物蒸发温度时才打开挡盖。
搜索关键词: 镀膜 质量 光学 空腔
【主权项】:
镀膜质量高的光学用真空腔体,其特征在于,包括真空腔体本体,在位于真空腔体本体的用于置放蒸发源的底部的正上方设有铰接在真空腔体本体上部的挡盖,挡盖下设置由记忆合金材料制成的弹簧。
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