[实用新型]以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝有效
| 申请号： | 201621119739.5 | 申请日： | 2016-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN206146527U | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | 罗海瀚;李耀鹏;刘定权;蔡清元;蒋林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | G01J3/04 | 分类号： | G01J3/04 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司31213 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本专利公开了一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝，该狭缝通过在蓝宝石片基底的入射面先镀制一层亚微米级厚的镍铬合金消光膜层形成狭缝图形，然后再分别在入射面和出射面镀制相应波段的增透膜。该狭缝可以使得在0.95～2.50微米光谱区间，透明狭缝区域的光谱透过率大于97％,不透明区域的光谱平均透过率低于0.1％。该狭缝宽度和形状可调，线性精度可达1微米。狭缝厚度仅为200～300纳米，可有效去除杂散光，狭缝结构简洁，定位精度高。该狭缝可应用于短波红外成像光谱仪等短波红外仪器中。 | ||
| 搜索关键词： | 蓝宝石 基底 微米 厚度 光学 狭缝 | ||
【主权项】：
一种以蓝宝石为基底的亚微米级厚度的光学狭缝，其特征在于:所述的亚微米级光学狭缝的结构为：狭缝(3)位于基底(1)的入射面上，在基底(1)的入射面狭缝(3)以外区域镀制有镍铬合金消光膜层(2)，在入射面侧的狭缝(3)和镍铬合金消光膜层(2)上镀有入射面增透膜(4)；在出射面侧镀有出射面增透膜(5)；所述的镍铬合金消光膜层(2)的厚度为200～300纳米；所述的狭缝(3)是厚度为200～300纳米的光学狭缝。
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