[实用新型]涂胶设备及光刻系统有效
| 申请号： | 201621142685.4 | 申请日： | 2016-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN206074991U | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 胡文斌;张心杰 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静,刘伟 |
| 地址： | 230011 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种涂胶设备，包括悬挂设置的本体，所述本体包括设有出胶口的第一面，还包括用于测量所述第一面上多个预设点的高度的测量装置；用于调整多个所述预设点的高度以使得多个所述预设点位于同一水平面上的调整装置。本实用新型还涉及一种光刻系统。本实用新型的有益效果是通过测量装置的测量发现涂胶本体的变形，并通过调整装置校正涂胶本体，避免涂胶不良。 | ||
| 搜索关键词： | 涂胶 设备 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种涂胶设备，包括悬挂设置的本体，所述本体包括设有出胶口的第一面，其特征在于，还包括：用于测量所述第一面上多个预设点的高度的测量装置；用于调整多个所述预设点的高度以使得多个所述预设点位于同一水平面上的调整装置。
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