[实用新型]一种蓝宝石纳米压晶片不良品洁净清洗系统有效
| 申请号： | 201621159177.7 | 申请日： | 2016-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN206332010U | 公开（公告）日： | 2017-07-14 |
| 发明（设计）人： | 郑松森;沈厚军;唐宁;周超锋 | 申请（专利权）人： | 南京京晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京思创大成知识产权代理有限公司11614 | 代理人： | 尹慧晶 |
| 地址： | 210038 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种蓝宝石纳米压晶片不良品洁净清洗系统，它包括晶片浸泡装置、药液补给装置、刷片旋干装置、传片系统、下片装置和控制器，所述的晶片浸泡装置、刷片旋干装置和下片装置依次设置，所述药液补给装置通过管路与晶片浸泡装置连接，由药液补给泵将药液补给到晶片浸泡装置中，所述传片系统布置于晶片浸泡装置、刷片旋干装置和下片装置之间，用于将晶片由晶片浸泡装置中取出运送到刷片旋干装置中作业，完成后将晶片运送到下片装置。本实用新型通过药液浸泡及刷片旋干，可以使晶片清洗的洁净度得到有效高，在后续的加工中产品质量更好、不会产生脱胶现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蓝宝石 纳米 晶片 不良 洁净 清洗 系统 | ||
【主权项】：
一种蓝宝石纳米压晶片不良品洁净清洗系统，其特征是它包括晶片浸泡装置（1）、药液补给装置、刷片旋干装置（3）、传片系统（4）、下片装置（2）和控制器，所述的晶片浸泡装置（1）、刷片旋干装置（3）和下片装置（2）依次设置，所述药液补给装置通过管路与晶片浸泡装置（1）连接，由药液补给泵将药液补给到晶片浸泡装置（1）中，所述传片系统（4）布置于晶片浸泡装置（1）、刷片旋干装置（3）和下片装置（2）之间，用于将晶片由晶片浸泡装置（1）中取出运送到刷片旋干装置（3）中作业，完成后将晶片运送到下片装置（2）。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
