[实用新型]一种CVD炉内气体对流系统有效
| 申请号： | 201621161612.X | 申请日： | 2016-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN206109532U | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 纪锦程;刘宗贺;王泗禹;邹有彪 | 申请（专利权）人： | 安徽富芯微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人： | 沈尚林 |
| 地址： | 230001 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种CVD炉内气体对流系统，包括石英管，其内水平放置有沿所述石英管轴向可移动的石英舟，所述石英舟上安装有硅片；所述石英管内表面设有若干个石英导流管，每个所述石英导流管朝向所述石英舟的一侧设有间隙排列的导流孔；不锈钢气管，其连接到所述石英导流管两端；其中，所述石英导流管与所述石英舟存在间隙。本实用新型通过石英管内表面设置的若干个石英导流管，每个石英导流管朝向石英舟的一侧设有间隙排列的导流孔；使得石英管内硅片表面镀膜均匀性提高，进一步提高成品耐压的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 气体 对流 系统 | ||
【主权项】：
一种CVD炉内气体对流系统，其特征在于，包括：石英管，其内水平放置有沿所述石英管轴向可移动的石英舟，所述石英舟上安装有硅片；所述石英管内表面设有若干个石英导流管，每个所述石英导流管朝向所述石英舟的一侧设有间隙排列的导流孔；以及，不锈钢气管，其连接到所述石英导流管两端；其中，所述石英导流管与所述石英舟存在间隙。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
