[实用新型]基板清洗装置有效
| 申请号： | 201621189298.6 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN206500382U | 公开（公告）日： | 2017-09-19 |
| 发明（设计）人： | 安俊镐;李荣均;尹赞相;金怜娥 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/04 | 分类号： | B08B1/04;B08B1/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所11399 | 代理人： | 朱健 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种基板清洗装置，其提供一种基板清洗装置，所述基板清洗装置包括基板支撑部，其对基板进行支撑；清洗刷，其在旋转的同时对基板进行接触清洗，并且使得旋转中心和所述基板表面保持接触状态的间隔距离在清洗工艺中发生变化，通过使清洗刷的旋转中心和基板的距离发生变化从而在加压基板的清洗刷的摩擦力发生变化的同时，不仅可大大提高去除残留在基板的表面的100μm以上的较大异物的效果，还可提高40μm至100nm以下的微小异物的去除效果。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种基板清洗装置，其特征在于，包括：基板支撑部，其对基板进行支撑；清洗刷，其在清洗工艺中进行旋转的同时对基板进行接触清洗；第一驱动马达，其对与所述清洗刷一体地旋转的旋转轴进行旋转驱动；移动块体，其与所述旋转轴一起沿着导向杆进行上下移动，所述清洗工艺中，所述移动块体沿着所述导向杆进行上下移动，从而使得所述清洗刷的旋转中心与所述基板表面间的间隔距离在清洗工艺中发生变化。
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