[实用新型]一种抛光磨料研磨活化装置有效
| 申请号： | 201621201878.2 | 申请日： | 2016-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN206185701U | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 毛卫平;张清明;杨明洋;刘秦江 | 申请（专利权）人： | 东莞市兰光光学科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;B02C7/08;B02C23/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523766 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种抛光磨料研磨活化装置，包括储液罐、搅拌器、输液管、上磨盘、下磨盘、驱动电机、集液槽、出液管、机台、过滤池、输送管、隔离罩；其中，储液罐内放置搅拌器，上磨盘设置有进液孔，抛光磨料流经输液管到达上磨盘进液孔后进入上磨盘和下磨盘之间；上磨盘在驱动电机驱动下转动，抛光磨料被上磨盘和下磨盘研磨，下磨盘周围设置集液槽用于收集研磨后的抛光磨料；集液槽连接出液管，出液管末端连接过滤池，过滤池设置有一级过滤网、二级过滤网，过滤池连接输送管。该实用新型对抛光磨料进行研磨活化处理，解决现有抛光磨料粒度分布不均及团聚、结块的问题，降低光学元件表面/亚表面裂纹深度，降低光学元件表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 磨料 研磨 活化 装置 | ||
【主权项】：
一种抛光磨料研磨活化装置，其特征是包括：储液罐、搅拌器、输液管、上磨盘、下磨盘、驱动电机、集液槽、出液管、机台、过滤池、输送管、隔离罩；其中，含有抛光磨料的液体储存在储液罐内，储液罐内放置搅拌器，上磨盘设置有进液孔，抛光磨料流经输液管到达上磨盘进液孔后进入上磨盘和下磨盘之间；上磨盘在驱动电机驱动下转动，抛光磨料被上磨盘和下磨盘研磨，下磨盘周围设置集液槽用于收集研磨后的抛光磨料；集液槽连接出液管，出液管末端连接过滤池，过滤池设置有一级过滤网、二级过滤网，过滤池连接输送管。
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