[实用新型]极片涂层清除装置有效
| 申请号： | 201621204193.3 | 申请日： | 2016-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN206148531U | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | 邹浒;李俊义;徐延铭 | 申请（专利权）人： | 珠海光宇电池有限公司 |
| 主分类号： | H01M4/04 | 分类号： | H01M4/04;H01M4/139 |
| 代理公司： | 广东朗乾律师事务所44291 | 代理人： | 杨焕军 |
| 地址： | 519180 广东省珠*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 极片涂层清除装置，包括用于放置极片的清洗平台、位于所述清洗平台上方的激光头，所述清洗平台内设置有流通冷却液体的循环冷却管道；所述清洗平台上设置有压块，所述压块压在极片上，所述压块上设置有通槽，所述通槽与极片上待清洗区域对应，所述通槽的侧壁上设置有真空吸嘴，所述压块内设置有与所述真空吸嘴连通的真空管路。本实用新型保可以证极片清洗区域恒定处于低温状态，从而防止清洗区域空箔氧化，并可防止清洗区域极片变形及保证清洁后极片的洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 涂层 清除 装置 | ||
【主权项】：
极片涂层清除装置，包括用于放置极片的清洗平台、位于所述清洗平台上方的激光头，其特征在于：所述清洗平台内设置有流通冷却液体的循环冷却管道；所述清洗平台上设置有压块，所述压块压在极片上，所述压块上设置有通槽，所述通槽与极片上待清洗区域对应，所述通槽的侧壁上设置有真空吸嘴，所述压块内设置有与所述真空吸嘴连通的真空管路。
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