[实用新型]腔体耦合缝隙辐射单元有效
申请号: | 201621206593.8 | 申请日: | 2016-11-08 |
公开(公告)号: | CN206225548U | 公开(公告)日: | 2017-06-06 |
发明(设计)人: | 刘沛业;陈志兴;章玉涛;林锦祥;胡轶 | 申请(专利权)人: | 广东盛路通信科技股份有限公司 |
主分类号: | H01Q1/50 | 分类号: | H01Q1/50;H01Q1/36;H01Q13/18 |
代理公司: | 佛山东平知识产权事务所(普通合伙)44307 | 代理人: | 詹仲国 |
地址: | 528100 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种腔体耦合缝隙辐射单元,其特征在于,它包括从下往上依次设置的含馈电结构的馈电层、用于耦合馈电层与辐射缝隙的含耦合口和耦合腔体的耦合层、以及辐射层,馈电层采用E面波导,通过孔径与上层耦合层耦合,在耦合层的耦合口上方设置耦合腔体,并形成一分四功分器;辐射层设置有由多个辐射缝隙单元组成的辐射缝隙阵列,在耦合腔体中对应辐射缝隙单元的位置设置矩形阶梯。本实用新型作为E‑band平板阵列的结构单元,具有高带宽,低损耗的特性,性比于同类型产品,性能更加优越。 | ||
搜索关键词: | 耦合 缝隙 辐射 单元 | ||
【主权项】:
一种腔体耦合缝隙辐射单元,其特征在于,它包括从下往上依次设置的含馈电结构的馈电层、含耦合口和耦合腔体的耦合层、以及辐射层,馈电层采用E面波导,通过孔径与上层耦合层耦合,在耦合层的耦合口上方设置耦合腔体,并形成一分四功分器;辐射层设置有由多个辐射缝隙单元组成的辐射缝隙阵列,在耦合腔体中对应辐射缝隙单元的位置设置矩形阶梯。
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