[实用新型]气体阻隔性层叠膜和波长变换片有效
| 申请号： | 201621233309.6 | 申请日： | 2016-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN206258653U | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | 村田光司;正田亮 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357;B32B27/06;B32B27/36 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型提供气体阻隔性层叠膜和波长变换片。上述气体阻隔性层叠膜具有第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、第1无机薄膜层和第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、第2无机薄膜层和第2气体阻隔性被覆层，其中，第1阻隔膜和第2阻隔膜处于以第1气体阻隔性被覆层与第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由粘接层层叠而成的状态，第1无机薄膜层与第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 层叠 波长 变换 | ||
【主权项】：
一种气体阻隔性层叠膜，其具有：第1阻隔膜，该第1阻隔膜具有第1基材、形成在该第1基材上的第1无机薄膜层和形成在该第1无机薄膜层上的第1气体阻隔性被覆层；以及第2阻隔膜，该第2阻隔膜具有第2基材、形成在该第2基材上的第2无机薄膜层和形成在该第2无机薄膜层上的第2气体阻隔性被覆层，其中，所述第1阻隔膜和所述第2阻隔膜处于以所述第1气体阻隔性被覆层与所述第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由粘接层层叠而成的状态，所述第1无机薄膜层与所述第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。
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