[实用新型]带感应片的吊装真空镀膜室有效
| 申请号： | 201621233701.0 | 申请日： | 2016-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN206127403U | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 许峰 | 申请（专利权）人： | 苏州市博飞光学有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215124 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及带感应片的吊装真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、感应片，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有蒸发源，镀膜支架设置在反应室顶部下方，镀膜支架上表面朝上突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方，镀膜支架顶部位置设置有感应片。由于本实用新型所述的带感应片的吊装真空镀膜室的镀膜支架上表面朝上方突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方，因此蒸发源与镀膜支架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，而且镀膜支架通过三根支柱钢性连接在反应室顶部下方，提高了系统稳定性，保证了镀膜的均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 感应 吊装 真空镀膜 | ||
【主权项】：
带感应片的吊装真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、感应片，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有蒸发源，镀膜支架设置在反应室顶部下方，镀膜支架上表面朝上突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方，镀膜支架顶部位置设置有感应片。
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