[实用新型]一种新纳米级钻石抛光机设备有效
| 申请号： | 201621236931.2 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN206316900U | 公开（公告）日： | 2017-07-11 |
| 发明（设计）人： | 安代春 | 申请（专利权）人： | 深圳市斯普雷博科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/02;B24B51/00;B24B47/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518001 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种新纳米级钻石抛光机设备，包括纵向气缸、纵向履带、上平台、立柱、操作台、电缆托架、横向气缸、导轨、导轨电机和工作台，上平台左侧竖直方向设置有纵向履带，纵向履带右侧设置有纵向气缸，上平台设置在工作台后部，上平台与工作台之间的左右两侧各设置有1根立柱，上平台上设置有电缆托架，电缆托架下部设置有横向气缸，横向气缸右侧设置有导轨，导轨的下部设置有导轨电机，工作台的前部设置有操作台，本实用新型设计合理，使用方便，加工效率高，2D平面、3D曲面及复杂的表面都可以得到很好的打磨效果，打磨精度高，可做到超洁净度的镜面加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 钻石 抛光机 设备 | ||
【主权项】：
一种新纳米级钻石抛光机设备，包括纵向气缸、纵向履带、上平台、立柱、操作台、电缆托架、横向气缸、导轨、导轨电机和工作台，其特征在于：上平台左侧竖直方向设置有纵向履带，纵向履带右侧设置有纵向气缸，上平台设置在工作台后部，上平台与工作台之间的左右两侧各设置有1根立柱，上平台上设置有电缆托架，电缆托架下部设置有横向气缸，横向气缸右侧设置有导轨，导轨的下部设置有导轨电机，工作台的前部设置有操作台。
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