[实用新型]一种增加MARK定位线的遮光膜有效
| 申请号： | 201621255308.1 | 申请日： | 2016-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN206439693U | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | 宋荣华;叶世挺;高远;李林生;卢文勇;何德 | 申请（专利权）人： | 江西联创致光科技有限公司 |
| 主分类号： | F21S8/00 | 分类号： | F21S8/00;F21V1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 330096 江西省南昌*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种增加MARK定位线的遮光膜。目前，BLU成品图纸要求的遮光膜定位尺寸公差为±0.15mm，现有CCD机台可以满足此公差范围，但客户提出要求定位尺寸公差做到±0.10mm满足不了，存在不足。本实用新型涉及一种增加MARK定位线的遮光膜，其中遮光膜内含有遮光膜V.A区，遮光膜V.A区四个角上设有直角型定位MARK线。本装置在遮光膜V.A区四个角上增加直角型定位MARK线，由原来的遮光膜边缘与胶框边缘定位改成遮光膜直角型MARK线与胶框边缘定位，提高遮光膜与胶框定位尺寸组装精度，减少背光边缘亮边、漏光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增加 mark 定位 遮光 | ||
【主权项】：
一种增加MARK定位线的遮光膜，包括遮光膜（1）、遮光膜V.A区（2）、直角型定位MARK线（3）；其特征在于：遮光膜（1）内含有遮光膜V.A区（2），遮光膜V.A区（2）四个角上设有直角型定位MARK线（3）。
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