[实用新型]掩膜支撑结构有效
申请号: | 201621265599.2 | 申请日: | 2016-11-23 |
公开(公告)号: | CN206270648U | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 龚建国;罗武峰;冉应刚;杨颖;吴俊雄;柯贤军;苏君海;李建华 | 申请(专利权)人: | 信利(惠州)智能显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 邓云鹏 |
地址: | 516029 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种掩膜支撑结构,包括框架及支撑架,框架具有中空结构,框架具有相对设置的第一侧边以及相对设置的第二侧边,支撑架包括支撑条和遮挡条,支撑条的两个端部分别与两个第一侧边连接,遮挡条的两个端部分别与两个第二侧边连接,位于支撑条与遮挡条的连接交叉位置处支撑条开设有第一嵌置槽,遮挡条开设有第二嵌置槽,第一嵌置槽与第二嵌置槽相对齐。上述掩膜支撑结构的支撑条和遮挡条通过第一嵌置槽与第二嵌置槽相对齐,能够减轻支撑条与遮挡条在连接交叉位置处厚度较大的问题,从而能够有效缓解支撑条和遮挡条在连接交叉位置处的变形问题,当将掩膜板放置在遮挡条上时,能够使遮挡条与掩膜板贴合地更加紧密。 | ||
搜索关键词: | 支撑 结构 | ||
【主权项】:
一种掩膜支撑结构,包括框架及支撑架,所述框架具有中空结构,所述框架具有相对设置的两个第一侧边以及相对设置的两个第二侧边,所述支撑架包括支撑条和遮挡条,所述支撑条的两个端部分别与两个所述第一侧边连接,所述遮挡条的两个端部分别与两个所述第二侧边连接,其特征在于,所述掩膜支撑结构在所述支撑条与所述遮挡条的连接交叉位置处设置以下结构:所述支撑条开设有第一嵌置槽,所述遮挡条开设有第二嵌置槽,所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相对齐,以使所述支撑条与所述遮挡条相互嵌置。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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