[实用新型]张应变锗MSM光电探测器有效

专利信息
申请号: 201621269252.5 申请日: 2016-11-21
公开(公告)号: CN206322721U 公开(公告)日: 2017-07-11
发明(设计)人: 周志文;李世国;沈晓霞 申请(专利权)人: 深圳信息职业技术学院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/108;H01L31/0352;H01L31/0216
代理公司: 深圳中一专利商标事务所44237 代理人: 阳开亮
地址: 518029 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种张应变锗MSM光电探测器。所述光电探测器包括衬底层,自所述衬底层第一表面向外,依次叠设有牺牲层、含锗层、应力源层、金属层;所述含锗层图形化形成中心区和周围区,所述中心区和所述周围区通过含锗桥梁连接成一体,由所述含锗层中心区、含锗桥梁和含锗周围区围成若干通孔;所述含锗层中心区的正下方无所述牺牲层;所述应力源层贯穿所述通孔和所述牺牲层、并延伸至所述衬底层第一表面;所述金属层嵌入所述应力源层,并与所述含锗层的中心区接通;所述金属层构成光电探测器的正极和负极。本实用新型光电探测器含锗层中可控的引入大的张应变,张应变达到2.0%以上,从而有效的提高MSM光电探测器的响应度。
搜索关键词: 应变 msm 光电 探测器
【主权项】:
一种张应变锗MSM光电探测器,其特征在于:包括衬底层;所述衬底层具有相对的第一表面和第二表面;自所述第一表面向外,依次叠设有牺牲层、含锗层、应力源层、金属层;所述含锗层图形化形成中心区和周围区,所述中心区和所述周围区通过含锗桥梁连接成一体,由所述含锗层中心区、含锗桥梁和含锗周围区围成若干通孔;所述含锗层中心区的正下方无所述牺牲层;所述应力源层贯穿所述通孔和所述牺牲层、并延伸至所述衬底层第一表面;所述金属层嵌入所述应力源层内部,并与所述含锗层的中心区接通;所述金属层构成所述张应变锗MSM光电探测器的正极和负极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳信息职业技术学院,未经深圳信息职业技术学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621269252.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top