[实用新型]张应变锗MSM光电探测器有效
申请号: | 201621269252.5 | 申请日: | 2016-11-21 |
公开(公告)号: | CN206322721U | 公开(公告)日: | 2017-07-11 |
发明(设计)人: | 周志文;李世国;沈晓霞 | 申请(专利权)人: | 深圳信息职业技术学院 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/108;H01L31/0352;H01L31/0216 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所44237 | 代理人: | 阳开亮 |
地址: | 518029 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开一种张应变锗MSM光电探测器。所述光电探测器包括衬底层,自所述衬底层第一表面向外,依次叠设有牺牲层、含锗层、应力源层、金属层;所述含锗层图形化形成中心区和周围区,所述中心区和所述周围区通过含锗桥梁连接成一体,由所述含锗层中心区、含锗桥梁和含锗周围区围成若干通孔;所述含锗层中心区的正下方无所述牺牲层;所述应力源层贯穿所述通孔和所述牺牲层、并延伸至所述衬底层第一表面;所述金属层嵌入所述应力源层,并与所述含锗层的中心区接通;所述金属层构成光电探测器的正极和负极。本实用新型光电探测器含锗层中可控的引入大的张应变,张应变达到2.0%以上,从而有效的提高MSM光电探测器的响应度。 | ||
搜索关键词: | 应变 msm 光电 探测器 | ||
【主权项】:
一种张应变锗MSM光电探测器,其特征在于:包括衬底层;所述衬底层具有相对的第一表面和第二表面;自所述第一表面向外,依次叠设有牺牲层、含锗层、应力源层、金属层;所述含锗层图形化形成中心区和周围区,所述中心区和所述周围区通过含锗桥梁连接成一体,由所述含锗层中心区、含锗桥梁和含锗周围区围成若干通孔;所述含锗层中心区的正下方无所述牺牲层;所述应力源层贯穿所述通孔和所述牺牲层、并延伸至所述衬底层第一表面;所述金属层嵌入所述应力源层内部,并与所述含锗层的中心区接通;所述金属层构成所述张应变锗MSM光电探测器的正极和负极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的