[实用新型]辐射屏蔽装置及放射治疗系统有效
| 申请号： | 201621290357.9 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN206867514U | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 刘艳芳;韩卫 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;G21F1/08;G21F3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及放射治疗领域，提出一种辐射屏蔽装置及具有该辐射屏蔽装置的放射治疗系统，其中辐射屏蔽装置包括至少两个辐射屏蔽层第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层，用于对电子元件进行光子屏蔽，第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层，用于对电子元件进行电子屏蔽，所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。本实用新型的辐射屏蔽装置包括光子屏蔽层和电子屏蔽层，从而可以屏蔽大部分辐射，有效提高电子元件的使用寿命且提高放射治疗的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 屏蔽 装置 放射 治疗 系统 | ||
【主权项】：
一种辐射屏蔽装置，其特征在于，包括至少两个辐射屏蔽层：第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层，用于对电子元件进行光子屏蔽，第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层，用于对电子元件进行电子屏蔽，所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。
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