[实用新型]一种匀化光斑的装置及系统有效
| 申请号： | 201621298513.6 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN206400197U | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 蔡磊;刘兴胜 | 申请（专利权）人： | 镭蒙（苏州）微光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215104 江苏省苏州市苏州吴中经济开*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种匀化光斑的装置，所述装置包括入射面和出射面；其中，所述入射面包括非均匀排列的微单元阵列，所述微单元阵列用于将入射到所述入射面上的光束进行扩束；所述出射面用于将经所述微单元阵列扩束后的光束出射。本实用新型还提供一种匀化光斑的系统，通过本实用新型提供的匀化光斑的装置及系统，能够有效地实现光斑的匀化，并且体积小，重量轻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光斑 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种匀化光斑的装置，其特征在于，所述装置包括：入射面和出射面；其中，所述入射面包括非均匀排列的微单元阵列，所述微单元阵列用于将入射到所述入射面上的光束进行扩束；所述出射面用于将经所述微单元阵列扩束后的光束出射。
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