[实用新型]一种高功率激光光斑均匀化装置有效

专利信息
申请号: 201621300944.1 申请日: 2016-11-30
公开(公告)号: CN206339793U 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 张俊祺;王文革;张奇;王阔传;刘浩;黄赜 申请(专利权)人: 北京航天计量测试技术研究所;中国运载火箭技术研究院
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 核工业专利中心11007 代理人: 任超
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种高功率激光光斑均匀化装置,包括积分器入口3、基体A6、基体B7、基体C8、基体D9,其中基体A6、基体B7、基体C8、基体D9之间通过螺钉2共同组成一个长方体,长方体位于连接调节支架4上,在长方体水平位置开有积分器入口3;在基体C8、基体D9之间有冷却水流道A1,在基体C8、基体A6之间有冷却水流道C10,在基体B7、基体D9有冷却水流道B5。
搜索关键词: 一种 功率 激光 光斑 均匀 化装
【主权项】:
一种高功率激光光斑均匀化装置,其特征在于:包括积分器入口(3)、基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9),其中基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9)之间共同组成一个长方体,长方体位于连接调节支架(4)上,在长方体水平位置开有积分器入口(3);在基体C(8)、基体D(9)之间有冷却水流道A(1),在基体C(8)、基体A(6)之间有冷却水流道C(10),在基体B(7)、基体D(9)有冷却水流道B(5)。
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