[实用新型]一种高功率激光光斑均匀化装置有效
申请号: | 201621300944.1 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN206339793U | 公开(公告)日: | 2017-07-18 |
发明(设计)人: | 张俊祺;王文革;张奇;王阔传;刘浩;黄赜 | 申请(专利权)人: | 北京航天计量测试技术研究所;中国运载火箭技术研究院 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09 |
代理公司: | 核工业专利中心11007 | 代理人: | 任超 |
地址: | 100076 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种高功率激光光斑均匀化装置,包括积分器入口3、基体A6、基体B7、基体C8、基体D9,其中基体A6、基体B7、基体C8、基体D9之间通过螺钉2共同组成一个长方体,长方体位于连接调节支架4上,在长方体水平位置开有积分器入口3;在基体C8、基体D9之间有冷却水流道A1,在基体C8、基体A6之间有冷却水流道C10,在基体B7、基体D9有冷却水流道B5。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 激光 光斑 均匀 化装 | ||
【主权项】:
一种高功率激光光斑均匀化装置,其特征在于:包括积分器入口(3)、基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9),其中基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9)之间共同组成一个长方体,长方体位于连接调节支架(4)上,在长方体水平位置开有积分器入口(3);在基体C(8)、基体D(9)之间有冷却水流道A(1),在基体C(8)、基体A(6)之间有冷却水流道C(10),在基体B(7)、基体D(9)有冷却水流道B(5)。
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