[实用新型]控制装置有效

专利信息
申请号: 201621311207.1 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN206226399U 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: D·朱斯;J·C·J·杰森斯 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H03K17/14 分类号: H03K17/14
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 金晓
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及控制装置。本实用新型的一个实施例解决的技术难题是,HV MOS晶体管的泄漏电流可能过高而使所述晶体管不能用于超低电流装置。技术效果是,使HV MOS晶体管能够用于超低电流操作。一种具有超低电流要求的示例性控制装置,所述控制装置包括控制信号线;控制电流源;高压金属氧化物半导体(“HV MOS”)控制晶体管,其有选择地将所述控制电流源耦接到所述控制信号线,所述控制晶体管还将寄生泄漏电流耦接到所述控制信号线;以及补偿电流源,其耦接到所述控制信号线以提供补偿电流,所述补偿电流源包括HV MOS补偿晶体管,所述补偿晶体管将所述补偿电流与所述寄生泄漏电流匹配。
搜索关键词: 控制 装置
【主权项】:
一种控制装置,其特征在于所述控制装置包括:控制信号线;控制电流源;高压金属氧化物半导体HV MOS控制晶体管,所述控制晶体管选择性地将所述控制电流源耦接至所述控制信号线,所述控制晶体管还将寄生泄漏电流耦接至所述控制信号线;以及耦接至所述控制信号线以提供补偿电流的补偿电流源,所述补偿电流源包括将所述补偿电流与所述寄生泄漏电流匹配的HV MOS补偿晶体管。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于半导体元件工业有限责任公司,未经半导体元件工业有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621311207.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top