[实用新型]金属化膜电容器芯子有效

专利信息
申请号: 201621351900.1 申请日: 2016-12-10
公开(公告)号: CN206331919U 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 吕国安;傅胜春 申请(专利权)人: 上海上电电容器有限公司
主分类号: H01G4/32 分类号: H01G4/32;H01G4/33;H01G4/015;H01G2/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及电容器技术领域,尤其是涉及高场强应用的金属化膜电容器技术领域,具体公开了一种金属化膜电容器芯子,包括卷绕的至少两层金属化膜,相邻的两层金属化膜平行,金属化膜由介质层和位于其上的电极构成,电极为金属镀层,金属镀层与介质层在一端齐平,且金属镀层在齐平一端设有加厚区,金属镀层与介质层在另一端处形成留边,金属镀层在加厚区与留边之间为活动区,活动区为均匀方阻结构,相邻两层金属化膜活动区的均匀方阻值不同。本实用新型既具有良好的自愈特性,又具有较好的散热性,易于实现整体发热功率的控制,结构简单,制造难度低,成本低。
搜索关键词: 金属化 电容器 芯子
【主权项】:
金属化膜电容器芯子,包括卷绕的至少两层金属化膜,相邻的两层金属化膜平行,所述金属化膜由介质层(2)和位于其上的电极(1)构成,所述电极(1)为金属镀层,其特征在于:所述金属镀层与介质层(2)在一端齐平,且所述金属镀层在所述齐平一端设有加厚区(3),所述金属镀层与介质层(2)在另一端处形成留边(4),所述金属镀层在加厚区(3)与留边(4)之间为活动区(5),所述活动区(5)为均匀方阻结构,相邻两层金属化膜活动区(5)的均匀方阻值不同。
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