[实用新型]一种均匀恒定热损耗磁透镜有效
| 申请号： | 201621375870.8 | 申请日： | 2016-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN206451681U | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 何伟;李帅 | 申请（专利权）人： | 聚束科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/141 | 分类号： | H01J37/141;H01J37/24 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 | 代理人： | 张颖玲,李梅香 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种均匀恒定热损耗磁透镜，所述均匀恒定热损耗磁透镜包括导磁壳体、激励线圈和电源控制系统；其中，所述导磁壳体，在所述激励线圈的外部包围所述激励线圈；所述激励线圈由绞合线缠绕而形成；所述电源控制系统，用于对所述激励线圈供电，控制所述激励线圈的电流方向及电流大小。通过本实用新型实施例，能够在改变所述均匀恒定热损耗磁透镜聚焦特性的同时，保持所述均匀恒定热损耗磁透镜具有均匀恒定的热损耗功率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 恒定 损耗 透镜 | ||
【主权项】：
一种均匀恒定热损耗磁透镜，其特征在于，所述均匀恒定热损耗磁透镜包括：导磁壳体、激励线圈和电源控制系统；其中，所述导磁壳体，在所述激励线圈的外部包围所述激励线圈；所述激励线圈由绞合线缠绕而形成；所述电源控制系统，用于对所述激励线圈供电，控制所述激励线圈的电流方向及电流大小。
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