[实用新型]一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构有效
| 申请号： | 201621380465.5 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN206574489U | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 张秀杰;潘传杰;许增裕 | 申请（专利权）人： | 核工业西南物理研究院 |
| 主分类号： | G21B1/13 | 分类号： | G21B1/13 |
| 代理公司： | 核工业专利中心11007 | 代理人： | 高安娜 |
| 地址： | 610041 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于流体流动控制技术领域，具体涉及一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，包括若干个相同的弧形底壁单元，所述弧形底壁单元的上表面为一个弧度较小连续变化的凸起的曲面，下表面为一个弧度较小连续变化的凹陷的曲面，相邻的两个弧形底壁单元平行连接，连接边为长边。本实用新型在工程上简单易行，通过底壁的特殊结构设计引导和控制液态锂膜流，防止其收缩而获得完全覆盖底壁的液态锂膜流系统，为解决在润湿性不好情况下如何实现大面积完全覆盖底壁的锂膜流系统提供了一种新的思路。该锂膜流系统不仅适用于入口膜厚及流速较大的情况，同时还适用于入口膜厚及流速较小的情况，适用范围较广。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 形成 大面积 均匀 稳定 锂膜流 结构 | ||
【主权项】：
一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，包括若干个相同的弧形底壁单元，其特征在于：所述弧形底壁单元的上表面为一个弧度较小连续变化的凸起的曲面，下表面为一个弧度较小连续变化的凹陷的曲面，相邻的两个弧形底壁单元(1)平行连接，连接边为长边。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于核工业西南物理研究院，未经核工业西南物理研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201621380465.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
