[实用新型]钨化学沉积内腔等离子清洁终点控制器增益自动调节装置有效

专利信息
申请号: 201621380986.0 申请日: 2016-12-13
公开(公告)号: CN206479802U 公开(公告)日: 2017-09-08
发明(设计)人: 张德培;睢智峰 申请(专利权)人: 上海陛通半导体能源科技股份有限公司
主分类号: G05B19/042 分类号: G05B19/042
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦东新区郭*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 钨化学沉积内腔等离子清洁终点控制器增益自动调节装置,包括单片机核心控制模块、数字可调电阻和A/D转换。所述的单片机核心控制模块与数字可调电阻相连,另一端与A/D转换相连,通过A/D转换接收输出端的反馈信号。所述的数字可调电阻连接在终点控制器放大器两端,且与单片机核心控制模块相连。单片机核心控制模块根据输出端反馈信号,判断输出信号是否超出内部预设范围,从而调用不通过指令调节数字可调电阻阻值,最后使得输出值满足预设范围。
搜索关键词: 化学 沉积 等离子 清洁 终点 控制器 增益 自动 调节 装置
【主权项】:
钨化学沉积内腔等离子清洁终点控制器增益自动调节装置,其特征在于:包括单片机核心控制模块、数字可调电阻和A/D转换;所述的单片机核心控制模块与数字可调电阻相连,另一端与A/D转换相连,通过A/D转换接收输出端的反馈信号;所述的数字可调电阻连接在终点控制器放大器两端,且与单片机核心控制模块相连;单片机核心控制模块根据输出端反馈信号,判断输出信号是否超出内部预设范围,从而调用不通过指令调节数字可调电阻阻值,最后使得输出值满足预设范围。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海陛通半导体能源科技股份有限公司,未经上海陛通半导体能源科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621380986.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top