[实用新型]钨化学沉积内腔等离子清洁终点控制器增益自动调节装置有效
申请号: | 201621380986.0 | 申请日: | 2016-12-13 |
公开(公告)号: | CN206479802U | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | 张德培;睢智峰 | 申请(专利权)人: | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 |
主分类号: | G05B19/042 | 分类号: | G05B19/042 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201203 上海市浦东新区郭*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 钨化学沉积内腔等离子清洁终点控制器增益自动调节装置,包括单片机核心控制模块、数字可调电阻和A/D转换。所述的单片机核心控制模块与数字可调电阻相连,另一端与A/D转换相连,通过A/D转换接收输出端的反馈信号。所述的数字可调电阻连接在终点控制器放大器两端,且与单片机核心控制模块相连。单片机核心控制模块根据输出端反馈信号,判断输出信号是否超出内部预设范围,从而调用不通过指令调节数字可调电阻阻值,最后使得输出值满足预设范围。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 等离子 清洁 终点 控制器 增益 自动 调节 装置 | ||
【主权项】:
钨化学沉积内腔等离子清洁终点控制器增益自动调节装置,其特征在于:包括单片机核心控制模块、数字可调电阻和A/D转换;所述的单片机核心控制模块与数字可调电阻相连,另一端与A/D转换相连,通过A/D转换接收输出端的反馈信号;所述的数字可调电阻连接在终点控制器放大器两端,且与单片机核心控制模块相连;单片机核心控制模块根据输出端反馈信号,判断输出信号是否超出内部预设范围,从而调用不通过指令调节数字可调电阻阻值,最后使得输出值满足预设范围。
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