[实用新型]一种LED阵列光源曝光系统有效

专利信息
申请号: 201621389037.9 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN206270655U 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 蔡志国;龚田;李小明 申请(专利权)人: 湖北凯昌光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 武汉国越知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42232 代理人: 李伟涛
地址: 432000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型实施例公开了一种LED阵列光源曝光系统,该LED阵列光源曝光系统包括LED阵列光源,包括多个呈矩阵式排列的单组光源,每个单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片;光束整形镜片组,设置于聚光镜片远离LED芯片的一侧;反射镜,与光束整形镜片组远离LED阵列光源的一侧对应设置;DMD芯片,与反射镜上下对应设置;投影镜片组,与DMD芯片上下对应设置。本实用新型的LED阵列光源曝光系统大大缩减了设备的光源成本,延长了设备的使用寿命,通过阵列的摆放方式,在一开始就得到均匀的出光,简化了光束整形镜片组的结构,同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减,减小了曝光机的空间压力。
搜索关键词: 一种 led 阵列 光源 曝光 系统
【主权项】:
一种LED阵列光源曝光系统,其特征在于,所述LED阵列光源曝光系统包括:LED阵列光源,包括多个呈矩阵式排列的单组光源,每个所述单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片;光束整形镜片组,设置于所述聚光镜片远离所述LED芯片的一侧;反射镜,与所述光束整形镜片组远离所述LED阵列光源的一侧对应设置;DMD芯片,与所述反射镜上下对应设置,所述光束整形镜片组将从所述LED阵列光源获取的光斑缩小到所述DMD芯片的大小,然后通过所述反射镜反射到所述DMD芯片上;投影镜片组,与所述DMD芯片上下对应设置,所述DMD芯片上的光斑反射到所述投影镜片组,最终成像到曝光面。
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