[实用新型]研磨组件有效
| 申请号： | 201621392840.8 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN206277261U | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 谭巧敏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种研磨组件，所述研磨组件包括基座；吸附机构，所述吸附机构设置于所述基座的下表面；研磨环，所述研磨环设置于所述基座的下表面，且设置于所述吸附机构的外围，其中，所述研磨环上设置横向贯穿所述研磨环的通孔。通过上述方案，在进行晶圆研磨时，不仅使基座与吸附机构间的逢隙得到有效的清洗，减少晶圆出现的宏观划痕；且无需定期拆下研磨组件清洗，提高机台的有效工作时间，节约人力。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 组件 | ||
【主权项】：
一种研磨组件，其特征在于，所述研磨组件包括：基座；吸附机构，所述吸附机构设置于所述基座的下表面；研磨环，所述研磨环设置于所述基座的下表面，且设置于所述吸附机构的外围，其中，所述研磨环上设置横向贯穿所述研磨环的通孔。
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