[实用新型]一种大佛式公墓有效
| 申请号： | 201621404955.4 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN206360458U | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 龙德平 | 申请（专利权）人： | 重庆市铜梁区佛光耀祖石雕工艺品有限公司 |
| 主分类号： | E04H13/00 | 分类号： | E04H13/00 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司11246 | 代理人： | 胡柯 |
| 地址： | 重庆市铜梁县 南城街道*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种大佛式公墓，其特征在于：包括一个大佛形状的建筑体，建筑体内分为多层，每层设置有环形祭拜通道(2)，围绕环形祭拜通道(2)设置有龛位(1)，且建筑体底部设有供人员进出的出入口(5)；在环形祭拜通道(2)的中心设置有垂直上下的升降机，升降机通过至少一个连接桥连接每一层的环形祭拜通道(2)。一种大佛式公墓提高了建筑容积，节约了土地资源，又符合中国人“入土为安”的传统和汉民族的殡葬习俗，公墓采取大佛外观提高了园艺文化氛围，体现了社会对死者及其家属的人文关怀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 大佛 公墓 | ||
【主权项】：
一种大佛式公墓，其特征在于：包括一个大佛形状的建筑体，建筑体内分为多层，每层设置有环形祭拜通道(2)，围绕环形祭拜通道(2)设置有龛位(1)，且建筑体底部设有供人员进出的出入口(5)；在环形祭拜通道(2)的中心设置有垂直上下的升降机，升降机通过至少一个连接桥连接每一层的环形祭拜通道(2)。
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