[实用新型]一种晶圆状态检测装置和工艺机台有效
申请号: | 201621439326.5 | 申请日: | 2016-12-26 |
公开(公告)号: | CN206271678U | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 刘志攀;丁振宇;陈幸;邹浩;夏爱华 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人: | 杨立,陈振玉 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型特别涉及一种晶圆状态检测装置和工艺机台。晶圆状态检测装置包括控制器和静电吸附装置,静电吸附装置包括基座和设置在基座上的用于吸附晶圆的静电吸附盘,静电吸附装置中设有用于顶起晶圆的升降顶针,升降顶针的顶端设有压力传感器,压力传感器连接控制器,控制器输出端连接用于控制升降顶针上升或者下降的升降装置。本实用新型在升降顶针的顶端设置了压力传感器,通过压力传感器检测到的压力值可以知道静电吸附盘的静电是否释放完全,从而避免在静电没有释放完全时直接将晶元顶破或者将晶圆顶偏,不仅节约了晶圆成本,而且保证了晶圆不会破损在工艺机台的反应腔中,提高了工艺机台的利用效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 状态 检测 装置 工艺 机台 | ||
【主权项】:
一种晶圆状态检测装置,其特征在于,包括控制器和静电吸附装置,所述静电吸附装置包括基座和设置在基座上的用于吸附晶圆的静电吸附盘,所述静电吸附装置中设有用于顶起所述晶圆的升降顶针,所述升降顶针的顶端设有压力传感器,所述压力传感器连接控制器,所述控制器输出端连接用于控制升降顶针上升或者下降的升降装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造