[实用新型]可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统有效
| 申请号： | 201621448021.0 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN206631851U | 公开（公告）日： | 2017-11-14 |
| 发明（设计）人： | 姚志刚 | 申请（专利权）人： | 昆山乐凯锦富光电科技有限公司;合肥乐凯科技产业有限公司 |
| 主分类号： | B05C1/08 | 分类号： | B05C1/08;B05C11/10;B01F7/18 |
| 代理公司： | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司13108 | 代理人： | 李羡民,郭绍华 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。本实用新型避免了涂布槽死角因为粒子沉淀、涂布液流动不畅造成涂布液粘度不均等造成的拉丝、条道、暗纹、点子等弊病，实现光学膜连续稳定生产，提高良率。 | ||
| 搜索关键词： | 可防止 粒子 沉积 光学 膜涂布 系统 | ||
【主权项】：
一种可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。
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