[发明专利]多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法有效
申请号: | 201680001594.5 | 申请日: | 2016-03-15 |
公开(公告)号: | CN106460197B | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 着能真;鬼头佑典;渊上真一郎;小佐野善秀 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | C23F1/18 | 分类号: | C23F1/18;C23F1/26;H01L21/308 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 对于用一组分将铜层和钼层的多层膜蚀刻的蚀刻液而言,与蚀刻后的边缘的截面形状没有底切而形成正锥形的形状上的要求同样地,蚀刻液中不会产生析出物在批量生产时使用时是重要的。含有过氧化氢、无机酸、酸性有机酸、中性有机酸、胺化合物和过氧化氢分解抑制剂的包含铜层和钼层的多层膜用蚀刻液由于不含有唑化合物,因此在与过氧化氢之间不会生成反应物,蚀刻液中不会产生析出物。并且,蚀刻后的边缘的截面形状可以形成优选的正锥形形状。进而,由于也不含有磷化合物、氟化合物,因此废弃时环境负荷也轻。 | ||
搜索关键词: | 多层 蚀刻 浓缩 方法 | ||
【主权项】:
1.一种包含铜层和钼层的多层膜用蚀刻液,其特征在于,其含有:过氧化氢、无机酸、酸性有机酸、中性有机酸、胺化合物、和过氧化氢分解抑制剂,且不含有唑化合物、磷化合物和氟化合物,所述酸性有机酸含有乙醇酸、苹果酸这两种,所述过氧化氢分解抑制剂至少含有低级醇或醚。
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