[发明专利]偏振合成模块有效

专利信息
申请号: 201680002196.5 申请日: 2016-04-28
公开(公告)号: CN106662711B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 原德隆;片冈利夫 申请(专利权)人: 住友大阪水泥股份有限公司
主分类号: G02B6/27 分类号: G02B6/27
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 方应星;高培培
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种偏振合成模块,其能够抑制偏振合成的光学系统中的光轴的偏离而进行高效的偏振合成。偏振合成模块具备:PBS(4),对入射的2束直线偏振光进行合成并出射;λ/2波片(3),设置于向PBS(4)入射的2束直线偏振光中的至少一方的光路上,对透射的直线偏振光施加规定角度的偏振旋转;及底座部件(10),安装有λ/2波片(3)及PBS(4),底座部件(10)具有突出部(12),所述突出部(12)将λ/2波片(3)及PBS(4)的安装位置分离并设定为平行,λ/2波片(3)及PBS(4)使各自的一部分抵接于突出部(12)而安装于底座部件(10)。
搜索关键词: 偏振 合成 模块
【主权项】:
一种偏振合成模块,其特征在于,具备:光合成元件,对入射的2束直线偏振光进行合成并出射;偏振旋转元件,设置于向该光合成元件入射的2束直线偏振光中的至少一方的光路上,对透射的直线偏振光施加规定角度的偏振旋转;及底座部件,安装有该偏振旋转元件及该光合成元件,该底座部件具有突出部,所述突出部将该偏振旋转元件及该光合成元件的安装位置分离并设定为平行,该偏振旋转元件及该光合成元件使各自的一部分抵接于该突出部而安装于该底座部件。
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