[发明专利]双能量微分相衬成像在审
| 申请号： | 201680002867.8 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN107072621A | 公开（公告）日： | 2017-08-18 |
| 发明（设计）人： | G·马滕斯;U·范斯特文达勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;G21K1/10;G02B5/18 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 王英,刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种基于光栅的干涉X射线成像装置具有干涉仪(IF)。该干涉仪包括至少一个光栅(G1)。该光栅(G1)能相对于X射线成像装置的光轴倾斜。这样允许改变X射线成像装置的设计能量。 | ||
| 搜索关键词： | 能量 微分 成像 | ||
【主权项】：
一种X射线成像装置，包括：X射线源(XR)，其被配置为发射X辐射；X射线探测器(D)，其被配置为探测所述X辐射；干涉仪(IF)，其被布置在所述X射线源(XR)与所述探测器(D)之间，所述干涉仪包括至少一个干涉光栅(G1)；其中，所述至少一个干涉光栅结构能绕垂直于所述成像装置的光轴的第一轴倾斜，所述至少一个光栅(G1)由此能够相对于所述第一轴以不同倾角来取向；光栅调整器(SGC)机构，以相对于所述源光栅(G0)和/或相对于所述干涉仪(IF)来调整有效光栅间距，其中，所述光栅调整器(SGC)机构相对于所述源光栅(G0)来操作，以：i)将所述源光栅结构(G0、G01)交换成具有与所述源光栅(G0)的间距不同的间距的新源光栅结构，或者ii)至少将所述源光栅结构(G0、G01)和具有与所述源光栅(G0)的间距不同的间距的另一源光栅结构(G02)组合，以便补偿通过所述源光栅(G0、G01)与所述干涉仪(IF)之间的空间的有效路程长度的改变，所述有效路程长度的改变是由所述倾角中的任一个倾角导致的。
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