[发明专利]铜合金溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201680004589.X | 申请日： | 2016-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN107109633B | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 守井泰士;大月富男 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C9/00;C22F1/08;H01L21/285;C22C9/01;C22C9/05;C22F1/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种铜合金溅射靶，其特征在于，通过带电粒子活化分析而测定的、氧含量为0.6重量ppm以下、或者、氧含量为2重量ppm以下且碳含量为0.6重量ppm以下。另外，一种铜合金溅射靶的制造方法，其特征在于，对铜原料在真空或惰性气体气氛中进行熔炼，然后向熔炼中的气氛中加入还原气体，接着，向熔融金属中添加合金元素而进行合金化，并将所得到的锭加工为靶形状。本发明的课题是提供一种溅射时粉粒的产生少的铜合金溅射靶及其制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 铜合金 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种铜合金溅射靶，其特征在于，通过带电粒子活化分析而测定的、氧含量为0.6重量ppm以下、或者、氧含量为2重量ppm以下且碳含量为0.6重量ppm以下。
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