[发明专利]PTZT压电膜及其压电膜形成用液体组合物的制造方法有效
申请号: | 201680005012.0 | 申请日: | 2016-02-15 |
公开(公告)号: | CN107431123B | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 土井利浩;曽山信幸 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | H01L41/187 | 分类号: | H01L41/187;B41J2/14;B41J2/16;C01G35/00;H01L41/318;H01L41/319;H01L41/43 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 朴圣洁;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种PTZT压电膜,其由含有Pb、Ta、Zr及Ti的钙钛矿型结构的金属氧化物构成,所述金属氧化物还含有碳,所述碳的含量为80~800质量ppm。该压电膜形成用液体组合物的制造方法中,使Ta醇盐、Zr醇盐、β‑二酮类及二醇回流,向回流而得到的第1合成液中添加Ti醇盐并再次回流,向再次回流而得到的第2合成液中添加Pb化合物并进一步回流,从进一步回流而得到的第3合成液去除溶剂之后,用醇稀释来制造PTZT压电膜形成用液体组合物。该PTZT压电膜形成用液体组合物在将总计Ta醇盐、Zr醇盐及Ti醇盐的量设为1摩尔时,分别以成为7~11摩尔、1.5~3.0摩尔的比例包含二醇、β‑二酮类。 | ||
搜索关键词: | ptzt 压电 及其 形成 液体 组合 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种PTZT压电膜,其由含有Pb、Ta、Zr及Ti的钙钛矿型结构的金属氧化物构成,所述金属氧化物还含有碳,所述碳的含量为80~800质量ppm。
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