[发明专利]光照射装置有效
| 申请号： | 201680006084.7 | 申请日： | 2016-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN107110477B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 酒井宽人;泷口优 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | G03H1/22 | 分类号： | G03H1/22;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供即使在光的强度分布从高斯分布不连续地进行变形的情况下也能够使输出光的强度分布接近所希望的分布的光照射装置。本发明的光照射装置具备：高斯光束输出部(10)，输出具有服从高斯分布的光强度分布的光；空间光调制器(20)，接收所述光并呈现计算机全息图而调制所述光；光学系统(40)，对被调制的所述光进行聚光；振幅掩模(30)，被配置于所述高斯光束输出部与所述空间光调制器之间的光轴以及所述空间光调制器与所述光学系统之间的光轴中至少一方的光轴上；所述振幅掩模具有将所述光轴作为中心的圆形状的第1区域、包围所述第1区域的圆环状的第2区域，所述第2区域中的透过率随着从光轴离开而连续地降低。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光照射装置，其特征在于：具备：高斯光束输出部，输出具有服从高斯分布的光强度分布的光；空间光调制器，接收所述光并呈现计算机全息图而调制所述光；光学系统，对被调制的所述光进行聚光；以及振幅掩模，被配置于所述高斯光束输出部与所述空间光调制器之间的光轴以及所述空间光调制器与所述光学系统之间的光轴中至少一方的光轴上，所述振幅掩模具有将所述光轴作为中心的圆形状的第1区域、以及包围所述第1区域的圆环状的第2区域，所述第2区域中的透过率随着从所述光轴离开而连续地降低。
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