[发明专利]单晶金刚石材料、单晶金刚石芯片和穿孔工具有效

专利信息
申请号: 201680006136.0 申请日: 2016-07-22
公开(公告)号: CN107109691B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 西林良树;辰巳夏生;角谷均;植田晓彦;小林丰 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社;住友电工硬质合金株式会社
主分类号: C30B29/04 分类号: C30B29/04;B23B51/00;C23C16/27;C30B25/20
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在单晶金刚石材料中,非置换型氮原子的浓度为200ppm以下,置换型氮原子的浓度低于所述非置换型氮原子的浓度,并且所述单晶金刚石材料具有偏角为20°以下的晶体生长主表面。在单晶金刚石芯片中,非置换型氮原子的浓度可以为200ppm以下,置换型氮原子的浓度可以低于所述非置换型氮原子的浓度,并且所述单晶金刚石芯片可以具有偏角为20°以下的主表面。一种穿孔工具,其包含单晶金刚石拉丝模,其中在所述单晶金刚石拉丝模中,非置换型氮原子的浓度为200ppm以下,置换型氮原子的浓度低于所述非置换型氮原子的浓度,并且所述单晶金刚石拉丝模具有由‑5以上且5以下的整数密勒指数表示的低指数面,所述低指数面的垂线相对于拉丝用孔的取向的偏角为20°以下。
搜索关键词: 金刚石 材料 芯片 穿孔 工具
【主权项】:
一种单晶金刚石材料,其中,非置换型氮原子的浓度为200ppm以下,置换型氮原子的浓度低于所述非置换型氮原子的浓度,并且所述单晶金刚石材料具有偏角为20°以下的晶体生长主表面。
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