[发明专利]包括气体分配系统的喷溅装置

摘要

一种磁控喷溅装置(10)，其包括真空室(12)、靶(16)和气体分配系统(18)，受控的环境可以在所述真空室内建立，所述靶包括一种或多种可喷溅材料，其中靶包括跑道形喷溅区域(38)，所述跑道形喷溅区域沿纵向轴线纵向延伸并且包括被夹在第一转向区域(40)与第二转向区域(44)之间的笔直区域(42)，所述气体分配系统将第一气体混合物供给到第一转向区域和/或第二转向区域并且将第二气体混合物供给到笔直区域，其中第一气体混合物相对于第二气体混合物降低喷溅速率。在某些情况下，第一气体混合物包括具有第一原子量的惰性气体，并且第二气体混合物包括具有第二原子量的惰性气体，其中第二原子量比第一原子量重。

主权项

1.一种磁控喷溅装置，包括：真空室，受控的环境可以在所述真空室内建立；靶，其包括一种或多种可喷溅材料，其中所述靶包括沿纵向轴线纵向延伸的跑道形喷溅区域，所述跑道形喷溅区域包括被夹在第一转向区域与第二转向区域之间的两个笔直区域；气体分配系统，其包括沿纵向轴线延伸的多个接口，其中所述多个接口包括多个第一接口和多个第二接口，所述第一接口沿所述第一转向区域和所述第二转向区域定位以使得所述第一接口定位成将第一气体混合物供给到所述第一转向区域和所述第二转向区域两者，以使得所述第一气体混合物控制所述第一转向区域和所述第二转向区域两者的局部区域处的喷溅速率，所述第二接口沿所述两个笔直区域中的每个定位以使得所述第二接口定位成将第二气体混合物供给到所述笔直区域两者，以使得所述第二气体混合物控制所述笔直区域两者的局部区域处的喷溅速率，所述第一接口沿第一纵向距离和第三纵向距离定位，所述第二接口沿第二纵向距离定位，以使得所述第一纵向距离、所述第二纵向距离、和所述第三纵向距离不重叠；其中所述第一气体混合物被供给到第一接口，并且所述第二气体混合物被供给到第二接口，所述第一气体混合物包括具有第一原子量的单一惰性气体或两种或更多惰性气体，并且所述第二气体混合物包括具有第二原子量的单一惰性气体或两种或更多惰性气体，所述第一原子量是所述第一气体混合物中的所述单一惰性气体的原子量或所述两种或更多惰性气体的平均原子量，所述第二原子量是所述第二气体混合物中的所述单一惰性气体的原子量或所述两种或更多惰性气体的平均原子量，所述第一原子量不同于所述第二原子量，所述第二原子量比所述第一原子量重，以使得所述气体分配系统在所述第一转向区域和所述第二转向区域以及两个笔直区域上提供比如果仅将氩气氛围提供给所述第一转向区域和所述第二转向区域以及所述两个笔直区域相比更均匀的喷溅速率，所述第一气体混合物和所述第二气体混合物中的每一者不含活性气体。