[发明专利]具有栅结构的光学调制装置有效
| 申请号： | 201680008540.1 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN107209436B | 公开（公告）日： | 2020-09-11 |
| 发明（设计）人： | 韩承勋;黄耀纬;H.A.阿特沃特;李浩玮;R.索科彦;G.帕帕达基斯;K.特亚加拉詹 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社;加州理工学院 |
| 主分类号： | G02F1/29 | 分类号： | G02F1/29;G02F1/00;G02F1/01;G02B5/00;B82Y20/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学调制装置包括等离子体光子纳米天线层、面向等离子体光子纳米天线层的金属层，在等离子体光子纳米天线层与金属层之间的电容率变化层和介电材料层。根据外部信号形成在电容率变化层中的有源区域可以用作控制光学调制性能的光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 结构 光学 调制 装置 | ||
【主权项】：
一种光学调制装置，包括：等离子体光子纳米天线层；金属层；电容率变化层，设置在所述等离子体光子纳米天线层与所述金属层之间，所述电容率变化层的电容率根据施加到其上的信号而变化；以及介电材料层，设置在所述等离子体光子纳米天线层和所述金属层之间。
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